ТОМ 73,   №2

О новой возможности наращивания тонких пленок алмаза при осаждении углерода из газовой фазы


Предлагается новый метод наращивания тонких пленок алмаза, в основу которого положена разность в скоростях сублимации графита и алмаза. Данный метод рекомендуется использовать для получения алмазных пленок при температурах выше 1000оС без применения химического травителя.

Автор:  Л. О. Мелешко
Стр:  454-457

Л. О. Мелешко.  О новой возможности наращивания тонких пленок алмаза при осаждении углерода из газовой фазы  // Инженерно-физический журнал. 2000. ТОМ 73, №2. С. 454-457.


Возврат к списку