УДК 536.33

А. П. Иванов, Э. И. Виткин

ОСТЫВАНИЕ ПЛОСКОПАРАЛЛЕЛЬНОГО ДИСПЕРСНОГО СЛОЯ
В продолжение работ [1-5], где путем численного решения дифференциальных уравнений переноса излучения и теплопроводности исследовалась кинетика нагрева плоскопараллельного светорассеивающего слоя, рассматривается процесс остывания первоначально равномерно прогретого слоя. Приведены примеры при разных оптических и теплофизических характеристиках. Предложены понятия характеристических времен, определяя которые, можно, не решая дифференциальных уравнений, оценивать ряд конкретных параметров процессов остывания среды. Если слой при остывании все время остается равномерно прогретым, то получено простое аналитическое решение задачи. Показано, что при определенных условиях по скорости остывания можно рассчитать отношение объемной концентрации частиц в среде к их диаметру. Институт физики им. Б. И. Степанова НАН Беларуси, г. Минск. Поступила 14.05.2001. IFZH74920200212 IFZH7492012