ТОМ 76,   №5

Очистка поверхности кремниевых структур в технологии сбис с применением быстрой термообработки


Изложены результаты исследования качества очистки поверхности кремния, двуокиси кремния и пленок алюминия с применением быстрой термической обработки перед нанесением фоторезиста и ее влияние на процесс ухода линейных размеров при травлении топологического рисунка. Все результаты рассмотрены в сопоставлении с традиционными методами очистки поверхности. Приведены параметры элементов сверхбольших интегральных схем, изготовленных с применением быстрой термической обработки для очистки поверхностей различных тонкопленочных материалов на кремнии.

Автор:  Пилипенко В. А., Пономарь В. Н., Горушко В. А.
Стр:  103-106

Пилипенко В. А., Пономарь В. Н., Горушко В. А..  Очистка поверхности кремниевых структур в технологии сбис с применением быстрой термообработки // Инженерно-физический журнал. 2003. ТОМ 76, №5. С. 103-106.


Возврат к списку