УДК 539.23

И. Ш. Абдуллин1), Р. Т. Галяутдинов2), 
Н. Ф. Кашапов1)

СИНТЕЗ ТОНКИХ ПЛЕНОК С РЕГУЛИРУЕМЫМ ПОГЛОЩЕНИЕМ
С ПОМОЩЬЮ СТРУЙНОГО ВЫСОКОЧАСТОТНОГО ИНДУКЦИОННОГО ПЛАЗМОТРОНА
Исследуются тонкопленочные покрытия SiOx и TiOx 
(0 < x < 2) с регулируемым поглощением, полученные 
с помощью струйной ВЧ плазмы в условиях динамического вакуума.

1)Казанский государственный технологический университет, 
2)Научно-исследовательский институт технологии насосного машиностроения, 
г. Казань; э-почта: raf7g@mail.ru. Поступила 20.09.2000, в окончательной 
редакции - 24.01.2001.

IFZH7492020015
IFZH749205